钴靶材，由高纯钴锭进行径向锻造和退火处理等工艺制备而成。钴是制备磁记录介质、磁记录磁头、光电器件和磁传感器和集成电路等元器件的重要材料。还可以作为半导体薄膜材料使用。
一、主要用途：
适用于磁控溅射制备锂薄膜
二、适用领域：
1、适用溅射设备品牌：
A.适用设备：单靶溅射系统，双靶溅射系统，JC500型磁控溅射仪，DE300DL 磁控溅射系统
B.适用设备品牌：
国产品牌：南光机器厂、北京仪器厂、金盛微纳、沈阳科仪、JK-LASKER、微电子所等品牌
2、常规尺寸：
1.直径：1英寸，2英寸，3英寸，4英寸，5英寸等不同直径
2.厚度：1mm，2mm，3mm，4mm等尺寸可定做
三、产品详细价格：
货号 | 产品名称 | 规格 | 包装 | 数量 | 交货期 | 备注 |
Co-T3512 | 钴 靶材 | 99.95% φ50*2mm | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Co-T3522 | 钴 靶材 | 99.95% φ50.8*2mm | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Co-T3532 | 钴 靶材 | 99.95% φ60*2mm | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Co-T3533 | 钴 靶材 | 99.95% φ60*3mm | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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Co-T3552 | 钴 靶材 | 99.95% φ76.2*2mm | 片 | 1 | 7-10个工作日 |
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备注：以上均为含税含运费价格，13%增值税发票，发票随货寄。
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